氧化亞硅真空升華爐

適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料大批量生產(chǎn);溫差控制精度高，高溫真空爐;具備高真空升華，反應(yīng)，脫脂，脫水，氣相沉積材料自動(dòng)研磨刮料，爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。

設(shè)備特點(diǎn)：

一次裝料量大， 生產(chǎn)效率高。

全程全封閉全自動(dòng)化作業(yè)，避免粉塵飛揚(yáng)，生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境整潔干凈。

溫度控制1500度以內(nèi)，升溫速率快。

可以在真空度下保持穩(wěn)定運(yùn)行工作。

設(shè)備參數(shù)：

爐型結(jié)構(gòu)：臥式

恒溫區(qū)尺寸：Φ500mm*600mm、中600mm*800mm、中700mm*1000mm、中800mm*1600mm 等尺寸(可按客戶需求定制)

爐體：由內(nèi)外雙層水冷結(jié)構(gòu)，與冷卻水接觸部分采用304不銹鋼制作，有效防止?fàn)t體長(zhǎng)時(shí)間使用漏氣現(xiàn)象

升華系統(tǒng)：由加熱區(qū)和收集區(qū)組成，加熱區(qū)由感應(yīng)線圈、重質(zhì)剛玉、石墨硬氈、等靜壓石墨組成;收集區(qū)由 310S 不銹鋼及保溫層組成

溫控系統(tǒng)：采用 PLC 觸屏集中控制方式，自動(dòng)化控制，帶網(wǎng)口，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制

加熱系統(tǒng)：采用感應(yīng)加熱，電源采用IGBT節(jié)能型電源，噪音小，比傳統(tǒng)晶閘管電源節(jié)能15%左右

真空系統(tǒng)：由多級(jí)真空泵、真空閥，壓力控制器及管路組成

冷卻系統(tǒng)：配置閉式冷卻系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)用去離子水，不會(huì)造成設(shè)備管路結(jié)垢，內(nèi)循環(huán)水損失小，外循環(huán)用自來(lái)水，自動(dòng)補(bǔ)水，風(fēng)機(jī)自啟動(dòng)散熱;散熱效果好，集成環(huán)保，占地面積小等特點(diǎn)

設(shè)備由升華系統(tǒng)、收集系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)組成。