有色金屬真空冶金設備

1-5kg實驗用真空感應熔煉爐 295     

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專為高校、科研單位研發的小型真空感應熔煉爐，也適合稀貴金屬的真空熔煉之用。由于配有測溫熱電偶，如更換坩堝及保溫層還可用于真空感應燒結。

小型真空擴散焊爐 289     

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適用于金屬及陶瓷的真空擴散焊接，金屬材料的熱壓成型及透明無機材料的熱壓燒結。

200Kg真空中頻感應爐 283     

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本產品為周期作業式，采用旋轉錠模托板，一爐可澆鑄多個錠子，適用于銀基、鎳基合金、特殊不銹鋼等在真空或保護氣氛下進行熔化、精煉。

100kg半連續式真空感應熔煉爐 281     

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本設備為半連續作業式真空感應爐，立式結構。適用于高溫金屬合金材料在真空或保護氣氛下進行熔化及精煉。如配有專用水冷坩堝也適用于熔煉鎂合金。特別是鎳基合金精密鑄造時，鑄模及砂箱可在爐外預熱，待熔化后進行鑄錠室進行澆鑄。確保鑄件質量。

真空感應加熱熱壓爐 346     

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1.采用感應加熱方式，底部裝料，充氣保護燒結，升溫快(100℃/分鐘)，2.降溫也快，生產效率高，一天可完成10爐以上。

100KG真空感應爐 317     

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本產品為立式結構，側面裝卸錠模，錠模小車電動進出。配有KGPS或IGBT電源。

框架式結構真空熱壓爐 249     

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本公司備有雙向同時加壓型，適用于大尺寸、多層材料的熱壓燒結。采用立式爐體，側部開門。裝卸料方便。全不銹鋼爐體及真空系統。

配真空手套箱熱壓爐 223     

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1.額定功率：25KW；2.額定電壓：380V/50Hz；3.極限真空度:10Pa；4.工作區尺寸：Ф90×120mm；

1.2噸半連續真空感應熔煉爐 291     

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1 半連續式1200kg真空感應熔煉爐，具有三個工作室，可實現真空加料，真空澆鑄，真空下錠模進出等工作。是大型高溫合金真空熔煉，精密合金鑄造的首選設備。2 本產品具有結構緊湊，功能強大，安全可靠等特點。

臥式真空脫羥爐 325     

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臥式真空脫羥爐：主要用于特殊電光源行業的石英脫羥工藝。

真空脫脂燒結爐-臥式 275     

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適用于硬質合金、不銹鋼注射成型、不銹鋼無紡布、磁性材料、光電材料、稀土永磁材料、人造金剛石原料、陶瓷材料等的真空燒結。

真空高溫釬焊爐 414     

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不銹鋼、鈦合金、高溫合金、硬質合金、有色金屬的釬焊。

真空壓力擴散焊爐 318     

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真空壓力擴散焊爐是一種用于固相連接異種或同種金屬/陶瓷材料的先進設備，通過高溫+高壓+真空環境實現原子級擴散結合。

真空鋁釬焊爐 307     

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用于汽車、飛機、船舶、壓縮機、空分設備、家用電器等用的換熱器和電子通訊部件的真空釬焊。

高壓氣體滲氮多功能真空爐 334     

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主要完成高溫合金鑄件的均勻性、固溶、時效、回火等真空熱處理，同時還具有氮化功能。

真空滲碳爐 537     

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真空滲碳爐適用于汽車齒輪、高附加值齒輪的真空滲碳和淬火、碳氮共滲，以及高速鋼、工模具鋼、合金結構鋼的真空淬火、真空退火

真空高壓氣淬爐-立式 285     

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用途 ：適用于高速鋼、工模具鋼、不銹鋼的淬火，不銹鋼、鈦合金的固溶處理，磁性材料的真空熱處理。

真空水淬爐 444     

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適用于鈦合金、鈹青銅、精密合金和不銹鋼的固溶、時效和退火，高速鋼、工模具鋼、合金結構鋼的真空退火、高溫回火。特別適用于鈦合金標準件的固溶處理。

真空回火爐 243     

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高速鋼、工模具鋼、合金結構鋼、不銹鋼及其他材料的真空回火，有色金屬退火和時效處理

真空高壓氣淬爐-臥式 290     

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臥式真空高壓氣淬爐是一種先進的熱處理設備，主要用于高合金鋼、工具鋼、鈦合金等材料的真空加熱和高壓氣體淬火。

臥式三室油淬爐 270     

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臥式三室油淬爐是一種用于金屬材料(如合金鋼、工具鋼、鋁合金等)熱處理加工的專用設備，采用三室分離設計(加熱室、淬火室、冷卻/回火室)，實現連續式熱處理生產。

真空退火爐-臥式 283     

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用途：高溫合金、難熔金屬、磁性材料、有色金屬、不銹鋼的光亮退火、真空釬焊和真空燒結電工磁性材料、有色金屬的退火及時效等

高真空多功能真空鍍膜機 274     

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高真空多功能真空鍍膜機是一種集成了多種鍍膜技術(如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等)的先進設備，能夠在高真空環境下實現不同類型的薄膜沉積，滿足科研與工業中對復雜薄膜的需求。

真空熱蒸發鍍膜系統 280     

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真空熱蒸發鍍膜系統是一種常見的物理氣相沉積(PVD)技術，通過加熱蒸發材料使其在真空環境中氣化，隨后凝結在基片表面形成薄膜。

多功能蒸鍍設備 325     

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多功能蒸鍍設備（Multi-functional Deposition System）是集成了多種PVD技術（如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射等）的復合型鍍膜設備，通常具備：模塊化真空腔體設計，多類型蒸發源/濺射靶兼容，基片多自由度運動系統，實時膜厚監測能力，輔助離子源/加熱裝置。

高真空多源熱蒸發設備 294     

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高真空多源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱原理的物理氣相沉積(PVD)設備，通過多個獨立可控蒸發源(通常2-14個)，在高真空環境(10??~10?? Pa)下實現：單質/合金薄膜的共蒸，多層復合結構沉積，梯度成分材料制備。

14源電阻式熱蒸發設備 266     

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14源電阻式熱蒸發設備是一種超多材料共蒸系統，通過高真空環境（10??~10?? Pa）和電阻加熱蒸發，實現復雜組分薄膜的精確制備。

三源熱蒸發設備 291     

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三源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發的鍍膜系統，配備3個獨立蒸發源，可在高真空（10??~10?? Pa）環境下沉積金屬或化合物薄膜。

高真空金屬鍍膜儀 270     

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高真空金屬鍍膜儀是一種利用物理氣相沉積（PVD）技術在真空環境中沉積金屬薄膜的設備，廣泛應用于科研、電子、光學及精密制造領域。其核心特點是高真空環境（10??~10?? Pa）和金屬蒸發/濺射鍍膜技術，可制備高純度、高均勻性的金屬薄膜（如Au、Ag、Al、Cu等）。

高真空六源熱蒸發設備 290     

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高真空六源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發原理的鍍膜設備，配備6個獨立蒸發源，可在高真空（10??~10?? Pa）環境下實現多材料共蒸或順序沉積，適用于復雜組分薄膜的制備。