有色金屬分析檢測設備

高頻紅外碳硫分析儀 2265     

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QR9000型高頻紅外碳硫分析儀主要用在：鋰電池。負極材料、礦石、新能源材料等。

全譜直讀光譜儀 2975     

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QR-9光譜儀適用于金屬制造、加工及金屬冶煉的質量監控、材料牌號識別、材料研發;是客戶的常備儀器之一。

高頻紅外碳硫分析儀 2233     

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QIR2002型高頻紅外碳硫分析儀主要用在：新能源、冶金、機械、礦山、商檢、核工業、煤炭、汽車、船舶、航空、食品、航天、建材、高校、地質、石化等；能快速測定鋼鐵、新能源材料、硅鈣合金、稀土金屬、鐵合金、磁性材料、有色金屬、碳化物、陶瓷、無機物、石墨、耐火材料、鐵礦、催化劑、爐渣、水泥、煤、焦炭、巖石、石灰、石油、化工及其它材料中碳、硫兩元素的質量分數。

高頻紅外碳硫分析儀 2636     

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主要用途： 適用于鋼鐵、有色金屬、水泥、礦石、玻璃、陶瓷及其它金屬、非金屬材料中碳硫兩元素質量分析的測定。本儀器采用高頻感應加熱爐燃燒樣品，紅外線吸收法測試樣品中碳硫兩元素質量分析。

高頻紅外碳硫分析儀 4276     

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主要用途： 適用于鋼鐵、有色金屬、水泥、礦石、玻璃、陶瓷及其它金屬、非金屬材料中碳硫兩元素質量分析的測定。本儀器采用高頻感應加熱爐燃燒樣品，紅外線吸收法測試樣品中碳硫兩元素質量分析。

手持光譜分析儀 3865     

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LIBS手持光譜分析儀器彌補了傳統元素分析方法的不足，尤其在微小區域材料分析、鍍層/薄膜分析、缺陷檢測、珠寶鑒定、法醫證據鑒定、粉末材料分析、合金分析等應用領域優勢明顯，同時，LIBS還可以廣泛適用于地質、煤炭、冶金、制藥、環境、科研等不同領域的應用。 除了傳統的實驗室的應用，LIBS還是為數不多的可以做成手持便攜裝置的元素分析技術，更是可以做在線分析的元素分析技術。這將使分析技術從實驗室領域拓展到戶外、現場。

手持合金分析光譜儀 4188     

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GF-5600 手持合金分析光譜儀用于不銹鋼、合金鋼、工具鋼牌號鑒定及成份、含量檢測，包含常用不銹鋼牌號201 203 301 304 316 321等幾百種。用于銅合號及成份檢測，包含黃銅、青銅、紫銅、純銅等等。用于各種混雜合金成份及檢測，包含鈦合金、錫合金、鉛合金、鎢合金、鋅合金、鋁合金、鎳合金等等。

直讀光譜儀 2172     

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一、儀器技術特點 1、儀器光學系統采用帕型-龍格裝置，高真空，分辨率高、靈敏度高等特點；由于機刻光柵可以產生較好的光譜，所以選線更具靈活性，從而避免光譜干擾； 2、儀器結構設計合理，電子系統高度集成化電路，故障率低； 3、分析速度快、重復性好、穩定性好； 4、可用于多種基體分析： Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等； 5、采用純中文Windows系統下的操作軟件，操作簡單易懂； 6、計算機軟件建有數據庫系統，方便了測量數據的查詢與打印，也可通過網絡遠程傳輸數據，方便快捷；

全譜直讀光譜儀 3676     

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NJ-QP880型全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術，應用了日本濱松公司的CMOS信號采集元件，每塊CMOS都可以單獨設值火花個數，與好的光譜儀技術同步，采用真空光室設計及全數字激發光源。這款CMOS光譜儀，既包含了CCD光譜儀的全譜特性，又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限，整機設計合理，操作簡單易學，具有數據精準，長期穩定性好等優點。

金相分析檢測專用中低速精密切割機 6448     

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中低速精密切割機，設計緊湊，依靠重力提供恒定的進給率自動切割，樣品產生的變形小，切口損失率低。適用于各種金屬材料，線路板和半導體等的精密切割。設備配有多種夾具，可切割不規則形狀的工件，是企業和科研院校理想的精密切割設備。

無級變速金相分析研磨拋光機 6384     

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雙盤雙控手動磨拋機是集金相試樣預磨、研磨和拋光等多功能于一體，動力 強，噪音低，堅固耐用，操作簡單，每個工作盤可獨立控制啟停和調整速度，兩人可以同 時獨立操作，是企業和科研院校理想的研磨拋光機。

高溫摩擦磨損試驗機 6299     

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摩擦磨損試驗的目的是為了對摩擦磨損現象及其本質進行研究，正確地評價各種 因素對摩擦磨損性能的影響，從而確定符合使用要求的摩擦副元件的最優參數。高溫 摩擦磨損試驗機可以在高溫環境下在線式研究摩擦、磨損和潤滑機理以及影響摩擦、 磨損的諸因素，對極端工況下新的耐磨、減磨及摩擦材料和潤滑劑進行評定。

高溫維氏硬度計 3712     

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由于材料（如金屬材料、陶瓷 、瑪瑙等）最終的工作環境不同，隨著環境溫度的變化，材料的硬度也會相應發生改變。為了解決同一材料在不同溫度環境下的硬度測試，我們公司在常規硬度計基礎上，增加了高溫系統，來模擬不同溫度的工作環境，得到材料的硬度測試數據，使實驗數據更具參考價值。

高低溫霍普金森桿 3463     

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霍普金森桿是一種研究一維應力狀態下材料動態力學性能的有效實驗裝置。該裝置通過應力波對試樣進行沖擊，可以計算出應力、應變、應變率、應變能等，通過該設備可以研究金屬材料、復合材料、混凝土及巖石類各向異性材料和各向同性材料的動態力學性能參數（動態壓縮強度、巴西圓盤動態拉伸強度等）。也可對試樣進行在不同外圍約束力下進行動態性能測試。

D300 經濟型高精度臺階儀 3451     

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Alpha-Step D-300 探針式輪廓儀支持臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力的2D 測量。光學杠桿傳感器技術提供高分辨率測量，大垂直范圍和低觸力測量功能。 探針測量技術的一個優點是它是一種直接測量，與材料特性無關。可調節的觸力以及探針的選擇都使其可以對各種結構和材料進行測量。通過測量粗糙度和應力，可以對工藝進行量化，確定添加或去除的材料量，以及結構的多種變化。

ezAFM-便攜式原子力顯微鏡 3398     

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ezAFM是新設計的精致型原子力顯微鏡，具有設計緊湊、美觀大方、高穩定性、占用空間小等特點，而且軟件功能強大、操作簡單、用戶界面良好，而且價格實惠，性價比較為高。它是理想的實驗室用原子力顯微鏡，廣泛應用于高等教育、納米技術教育和基礎研究等領域。產品系列包括：ezAFM、ezAFM+、ezAFM AQUA、以及ezAFM-Vacuum，ezSTM除了基本的形貌等掃描，可以用于電學、磁學等拓展模式，以及液相、真空環境等。

MVI原子力顯微鏡與可見-紅外-拉曼聯用系統 3574     

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原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope, AFM)經過30多年的發展后，從形貌測試及其它常規功能來看已經非常成熟。然而常規的原子力顯微鏡也越來越無法滿足科研人員在納米尺度下對于樣品進行多性質原位測試分析的需求，尤其在化學、光學、電學、熱學、力學等領域。 在具備常規原子力顯微鏡功能的條件下，基于光誘導力顯微鏡（Photo-induced Force Microscope, PiFM)技術，結合波長可調的可見-紅外光源，從而實現10nm以下空間分辨可見-紅外成像與光譜采集，無需遠場光學接收器及光譜儀。 此外，VistaScope原子力顯微鏡還可以與各類拉曼光譜儀

VITA　反應離子刻蝕機（垂直腔室） 2048     

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反應離子刻蝕系統，垂直腔室

SPRm200 表面等離子共振顯微鏡 2376     

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SPRm200 表面等離子共振顯微鏡 工作原理基于表面等離子共振（SPR）技術。是將表面等離子體共振技術和光學顯微鏡巧妙結合為一體的生物傳感檢測儀。可以同時得到細胞原位明場成像、SPR成像、及SPR動力學曲線定量親和常數、結合解離常數，它為免標記研究分子相互作用的領域開辟一個嶄新的前沿。專門針對細胞膜蛋白和相關分子免標記檢測而設計的SPRm200， 使您在不需要從細胞中提取和分離膜蛋白的前提下實時觀察細胞結構并同時測量藥物和靶點在細胞上的結合過程。還可進行對藥物和在天然狀態下的膜蛋白之間相互作用的測量，高分辨SPR成像，可

原位納米壓痕儀 2421     

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NanoFlip產品既可以工作在真空環境下進行各種原位力學測試；也可以直接在大氣環境下測試樣品的硬度、楊氏模量或者其它物理力學性能。 NanoFlip在硬度和楊氏模量測試、連續剛度測試（CSM）、力學性能譜圖（Mapping）、納米動態力學分析（DMA）、劃痕和磨損測試、柱壓縮等測試中表現出色，可同時將SEM圖像與力學測試數據同步。NanoFlip還可以進行快速壓痕測量，這是在惰性環境（如手套箱）中研究非均相材料的重要手段。

Candela CS920表面缺陷檢測儀 2177     

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KLA Candela光學表面缺陷分析儀（OSA）可對半導體及光電子材料進行先進的表面檢測。Candela系列既能夠檢測Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板，又能對SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料進行檢測，成為其制程中品質管理及良率改善的有力工具。 Candela系列采用光學表面分析（OSA）專用技術，可同時測量散射強度、形狀變化、表面反射率和相位轉移，為特征缺陷（DOI）進行自動偵測與分類。OSA檢測技術結合散射測量、橢圓偏光、反射測量與光學形狀分析等基本原理，以非破環性方式對Wafer表面的殘留異物，表面與表面下缺陷，形狀變化和薄膜厚度

電阻率測試儀 1916     

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Filmetrics的薄膜電阻測量設備開發源自于有著超過30年經驗的KLA的薄膜電阻計量技術，并由20年臺式測量設備開發經驗的Filmetrics團隊完善了桌面式方塊電阻測量產品。KLA薄膜電阻測量技術包括接觸（4PP）和非接觸（EC）方法。 Filmetrics的R50系列方塊電阻測量儀器可測量沉積在多種基材上的導電片和薄膜，跨越10個數量級范圍電阻率，包括：半導體晶圓基板、玻璃基板、塑料（柔性）基材、PCB圖案特征、太陽能電池、平板顯示層和圖案化特征、金屬箔

Desk V 薄膜沉積解決方案 1982     

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Desk V樣品制備系統配制用于蒸發和濺射，是一種高生產率的解決方案，可提供卓越、一致和高度可重復的結果。 Desk V鍍膜系統提供兩種版本：Desk V HP和Desk V TSC。Desk V TSC，是渦輪分子泵濺射鍍膜機選項，專為高分辨率顯微鏡樣品設計，適用于氧化和非氧化金屬。Desk V磁控濺射裝置精確沉積導電鍍膜，其熱蒸發選項可以沉積薄碳層(使用棒材或紗線)。

D300 經濟型高精度臺階儀 2005     

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Alpha-Step D-300 探針式輪廓儀支持臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力的2D 測量。光學杠桿傳感器技術提供高分辨率測量，大垂直范圍和低觸力測量功能。 探針測量技術的一個優點是它是一種直接測量，與材料特性無關。可調節的觸力以及探針的選擇都使其可以對各種結構和材料進行測量。通過測量粗糙度和應力，可以對工藝進行量化，確定添加或去除的材料量，以及結構的多種變化。

ezAFM-便攜式原子力顯微鏡 1984     

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ezAFM是新設計的精致型原子力顯微鏡，具有設計緊湊、美觀大方、高穩定性、占用空間小等特點，而且軟件功能強大、操作簡單、用戶界面良好，而且價格實惠，性價比較為高。它是理想的實驗室用原子力顯微鏡，廣泛應用于高等教育、納米技術教育和基礎研究等領域。產品系列包括：ezAFM、ezAFM+、ezAFM AQUA、以及ezAFM-Vacuum，ezSTM除了基本的形貌等掃描，可以用于電學、磁學等拓展模式，以及液相、真空環境等。

MVI原子力顯微鏡與可見-紅外-拉曼聯用系統 2483     

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在具備常規原子力顯微鏡功能的條件下，基于光誘導力顯微鏡（Photo-induced Force Microscope, PiFM)技術，結合波長可調的可見-紅外光源，從而實現10nm以下空間分辨可見-紅外成像與光譜采集，無需遠場光學接收器及光譜儀。VistaScope原子力顯微鏡還可以與各類拉曼光譜儀進行聯用，組成原子力顯微鏡與可見-紅外-拉曼聯用系統，以滿足科研人員在納米尺度下的測試需求。

P7 晶圓探針式輪廓儀/臺階儀 1967     

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KLA是全球半導體在線檢測設備市場較大的供應商，在半導體、數據存儲、 MEMS 、太陽能、光電子以及其他領域中有著不俗的市占率。 P-7是KLA公司的第八代探針式臺階儀系統，歷經技術積累和不斷迭代更新，集合眾多技術優勢。 P-7建立在市場領先的P-17臺式探針輪廓分析系統的成功基礎之上。 它保持了P-17技術的測量性能，并作為臺式探針輪廓儀平臺提供了好的性價比。 P-7可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力進行2D和3D測量，其掃描可達150mm而無需圖像拼接。從可靠性表現來看， P-7具有較好的測量重復性。UltraLite?傳感器具有動態力控制，

實驗室合金顎式破碎機 5135     

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LHMY-HJ125x150顎式合金破碎機 一、概述： 顎式合金破碎機主要用于化驗室，對原材料的中碎和細碎,其破碎方式為曲動擠壓式。被破碎物料的大塊度應小于其選用機器型號料口尺寸的10-60毫米。被破碎物料的抗壓強度為中等硬度。配用合金材質鄂板，如破碎物料有其它要求可提前定貨。

Agilent 8890 氣相色譜儀 3441     

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8890GC是安捷倫新一代旗艦級GC，擴展性強，性能滿足更廣泛的需要。 ——新一代強大的電子結構，帶雙核處理器； ——更加豐富的智能互聯功能； ——配備全套進樣口、檢測器和附件，CFT, Deans Switch, 反吹，雙塔進樣； ——支持6個氣體進樣閥和8個加熱區域； ——可同時安裝4個檢測器(15種可備選擇)； ——第6代EPC； ——支持眾多配件和易耗品； ——7英寸彩色觸摸屏

GC5890N高效氣相色譜儀 2758     

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儀器簡介：可選配多種檢測器及填充柱、分流/不分流毛細管柱進樣系統;全兼容安捷倫6890N氣相色譜儀檢測器及相關檢測器控制板、色譜工作站和自動進樣器。性價比卓越，性能優良，運行穩定可靠。 應用領域：石油、化工、食品、制藥、環保、疾控、安監、水務、電力、冶金、科研院所、質檢部門。 配套產品：頂空進樣器、氣體發生器、氣體純化器、熱解析儀、裂解器等。