權利要求
1.一種均勻下料的回轉窯，包括回轉窯本體(16)，其特征在于，還包括均勻下料裝置(20)，所述均勻下料裝置(20)包括機殼(8)，所述機殼(8)上對應回轉窯本體(16)的焙料出口設置有聚料斗(2)，所述聚料斗(2)的底部設有出料口(22)，所述聚料斗(2)用于聚集通過回轉窯本體(16)的焙料出口排出的焙料;所述機殼(8)的內部滑動安裝有下料斗(11)，所述下料斗(11)位于任一滑動位置時，所述出料口(22)始終與下料斗(11)上下對應布置;所述機殼(8)上位于下料斗(11)的一側設置有驅動裝置，所述驅動裝置用于驅動下料斗(11)往復運動。
2.根據權利要求1所述的均勻下料的回轉窯，其特征在于，所述驅動裝置包括翅片輪(12)、換向輥(3)、連接桿(6);
所述翅片輪(12)轉動安裝在聚料斗(2)與下料斗(11)之間，所述翅片輪(12)上環形陣列布置有若干個翅片(121)，所述出料口(22)位于翅片輪(12)側部的上方，所述出料口(22)正下方的出料路徑與翅片(121)的旋轉路徑的豎直切線重合;
所述換向輥(3)轉動安裝在機殼(8)上，所述換向輥(3)的外側壁上設置有環繞換向輥(3)周向布置的第一正弦滑槽(31)，所述換向輥(3)的一端與翅片輪(12)傳動連接;
所述連接桿(6)滑動安裝在機殼(8)上，所述連接桿(6)一端與下料斗(11)連接，所述連接桿(6)的另一端設有第一滑塊(10)，所述第一滑塊(10)滑動設置在第一正弦滑槽(31)的內部。
3.根據權利要求2所述的均勻下料的回轉窯，其特征在于，所述第一正弦滑槽(31)的波峰位于換向輥(3)的左側部，所述第一正弦滑槽(31)的波谷位于換向輥(3)的右側部，所述第一正弦滑槽(31)的波峰和波谷在換向輥(3)上相對布置。
4.根據權利要求3所述的均勻下料的回轉窯，其特征在于，還包括位于出料口(22)與下料斗(11)之間的下料通道(9)，所述下料通道(9)的頂部與出料口(22)接通，所述下料通道(9)的底部對應下料斗(11)設置，所述翅片輪(12)上一側的翅片(121)位于下料通道(9)內，所述下料通道(9)內部預留有供翅片輪(12)與翅片(121)旋轉的空間。
5.根據權利要求3所述的均勻下料的回
聲明：
“均勻下料的回轉窯、鋰輝石轉型焙燒系統及焙燒方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：四川卡森科技有限公司
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2025年07月09日 ~ 11日 
