本發明涉及一種低溫剝離修飾石墨烯及其制備方法,利用堿金屬在液氨中形成的氨合離子插入到石墨烯層間以剝離石墨得到片層較薄的石墨烯,氨合電子和修飾基團在石墨烯片層缺陷位點反應得到修飾石墨烯。與現有技術相比,本發明經過形貌分析及結構分析表明,所得的修飾石墨烯片層較薄,結構較完整,在水中和NMP中分散都較好且穩定。同時,本發明所得的修飾石墨烯與金屬氧化物、過渡金屬二硫化物復合可以得到結構穩定的復合材料。
聲明:
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